Electrodeposición de películas delgadass de ZnO para aplicaciones fotovoltaicas

Abstract

Se estudió la deposición de una película delgada de óxido de zinc sobre un sustrato conductor, que resultó ser transparente, semiconductor de tipo n, y apta para su aplicación en dispositivos fotovoltaicos. Se utilizó la electrodeposición como técnica de síntesis. Como reactivos y soporte se utilizaron cloruro de zinc (fuente de zinc y cloro), cloruro de potasio (fuente de cloro y electrolito soporte) y oxígeno gaseoso (fuente de oxígeno). Primero se seleccionó la calidad de los precursores a utilizar. Luego, la concentración del cloruro de zinc permaneció constante en 0.005 mol/L mientras que la de cloruro de potasio se varió entre 0 y 0.2 mol/L. Las demás variables del procesamiento se mantuvieron constantes a excepción del contraelectrodo, donde se seleccionó la configuración óptima optando entre una malla de platino y una chapa de zinc. La composición química y las propiedades estructurales se caracterizaron mediante difracción de rayos X (DRX), análisis por energía dispersiva de electrones (EDS), microscopía electrónica de barrido (SEM) y perfilometría. Las propiedades ópticas y eléctricas se caracterizaron mediante espectroscopía UV-Visible, fotoluminiscencia y espectroscopía de impedancia electroquímica con el modelo Mott- Schottky. Mail del autor Micaela Camino <camino.micaela@gmail.com>