Simulación de ataque químico en sólidos cristalinos mediante modelos atomísticos discretos

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dc.contributor.advisor Aldao, Celso Manuel
dc.contributor.advisor
dc.contributor.author Torres, Juan Pablo
dc.date.accessioned 2018-11-13T15:44:50Z
dc.date.available 2018-11-13T15:44:50Z
dc.date.issued 2009-12-29
dc.identifier.uri http://rinfi.fi.mdp.edu.ar/handle/123456789/177
dc.description.abstract Este trabajo tiene como objetivo tratar un número de aspectos de la problemática de la evolución de la rugosidad en la superficie del silicio, tanto en los procesos de deposición como de ataque químico húmedo (etching), mediante modelos atomísticos discretos. Se hace énfasis especial en el estudio de las propiedades de Scaling de los modelos y en la obtención de los exponentes de Scaling. Para la simulación de los modelos se ha empleado la técnica de Monte Carlo. Finalmente, se analizaron las morfologías obtenidas en las simulaciones. es_AR
dc.format application/pdf es_AR
dc.language.iso spa es_AR
dc.rights info:eu-repo/semantics/openAccess es_AR
dc.subject Silicio es_AR
dc.subject Ataque químico es_AR
dc.subject Higiene y seguridad en el trabajo es_AR
dc.title Simulación de ataque químico en sólidos cristalinos mediante modelos atomísticos discretos es_AR
dc.type Thesis es_AR
dc.rights.holder https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ es_AR
dc.type.oa info:eu-repo/semantics/bachelorThesis es_AR
dc.type.snrd info:ar-repo/semantics/tesis de grado es_AR
dc.type.info info:eu-repo/semantics/draft es_AR
dc.description.fil Fil: Torres, Juan Pablo. Universidad Nacional de Mar del Plata. Facultad de Ingeniería es_AR


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